在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到wafer制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价**的一部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。
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支持格式
- StereoLithography 565.9 KB.stl
3D模型参数
- 发布于2014-07-14
- 最后更新2014-07-16
- 多边形面数7,460
- 顶点数3,716
- 包含贴图否
- 包含材质是
- 绑定否
- 包含动画否
- UV展开是
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